英特尔拥抱高数值孔径EUV光刻技术而台积电却不愿采用这可能会颠覆盛行的行业霸主范式

Bernstein分析师呼吁他们的客户至少在2030年之前放弃英特尔，这家制造领域昔日的庞然大物正处于周期性最低点，预计未来几年将继续保持这种状态，因为它继续损失收入并放弃利润。然而，台积电立即不愿采用最新的光刻技术，为英特尔重拾失去的辉煌打开了一个狭窄的窗口。

英特尔打算在其即将推出的18A(1.8nm)工艺节点的参数范围内试验高数值孔径极紫外(EUV)光刻技术，然后将其正式纳入其14A(1.4nm)制造工艺。

相比之下，台积电似乎满足于迭代改进，包括用于提高生产效率的多个掩模和先进的基于纳米片的晶体管设计，用于其即将推出的A16工艺节点。这家制造商似乎还依赖超级电源轨背面供电(通过背面供电)来提高其产品在人工智能工作负载方面的性能。

这把我们带到了问题的症结所在。ASML每台高数值孔径EUV的成本约为3.85亿美元。该机器高昂的成本可能是台积电不愿全力投入这项技术的一个重要考虑因素。

然而，这样做时，台积电可能会重蹈英特尔的覆辙，当时它决定通过扣留其当时充裕的财务资源用于新推出的EUV光刻来最大化其底线指标。当时，台积电已全力投入EUV光刻技术，因此至今仍继续收获其明智策略的回报。

当然，这一次，英特尔的帕特·基辛格(PatGelsinger)将公司的生存押在了在高数值孔径EUV光刻新兴领域取得不可逾越的领先地位，该领域承诺提供无与伦比的分辨率，而对整个EUV光刻工艺进行迭代更新是无法实现的。匹配。事实上，美国纳税人将承担很大一部分相关成本，这一事实必须考虑到英特尔的冒险策略，特别是政府的《法案》资金已帮助这家昔日的制造巨头将这些成本社会化。